PLAN11出口自沖洗：

介質由泵的出口經管線進入機械密封實施沖洗。

適用情況：

1、清潔介質（介質本身須清潔）

2、介質溫度不高于110℃

3、泵進出口間的壓差不能大于10Bar（大于10Bar。則需設節(jié)流閥）

PLAN13入口自沖洗：

介質由入口經管線進入機封實現液體的循環(huán)流動

適用情況：

1、泵進出口壓力差大于10Bar

2、清潔介質

3、介質溫度不高于110℃

PLAN21出口冷卻自沖洗：

介質由泵的出口經冷卻器降溫后，再進入機械密封，實現對密封的冷卻。

適用情況：

1、介質溫度高于110℃

2、清潔介質

PLAN52不加壓冷卻方式：

利用壓力小于工藝流體壓力但不低于大氣壓力的阻隔流體，注入密封室中。由于隔流體壓力小于工藝流體壓力，少量工藝流體泄漏至阻隔流體中，被阻隔流體出密封室，到密封系統(tǒng)或放空系統(tǒng)中進行處理，從而避免工藝流體的直接排放大氣和環(huán)境的污染。

技術要求：

1、低壓阻隔流體防止?jié)B漏，但阻隔液壓力不得低于0.7公斤/厘米

2、阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質相溶

3、阻隔流體的流向應與軸的旋向相同

適應場合：

低沸點、易汽化的介質

危險品

不允許介質被污染的制藥行業(yè)

PLAN53加壓冷卻方式：

利用壓力大于工藝流體和大氣壓力的阻隔流體注入密封室中，由于阻隔流體壓力大于工藝流體壓力，防止了工藝流體向阻隔流體的泄漏，從而有效地防止工藝流對大氣和環(huán)境的污染。

技術要求:

1、阻隔流體壓力至少比密封腔壓力高1-2公斤/厘米

2、阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質相溶

3、阻隔流體的流向應與軸的旋向相同

適應場合：

易結晶或固化的介質

易聚合介質

常溫含顆粒的介質

PLAN54加壓冷卻方式：

利用加壓泵給阻隔流體加壓，壓力比工藝流體壓高1-2公斤/厘米2一方面，提高阻隔流體的循環(huán)速度，加快對密封面的冷卻；另一方面，阻止工藝流體通過內側密封向阻隔流體系統(tǒng)的泄漏，避免工藝流體對大氣和環(huán)境的污染。

技術要求：

1、阻隔流體壓力比密封腔內工藝流體壓力高1-2公斤/厘米

2、阻隔流體須清潔，潤滑，且和介質相溶

3、阻隔流體的流向應與軸的旋向相同

適應場合：

高溫含顆粒的介質

熱流體

低溫介質